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公开(公告)号：CN110776909A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201810869391.9
申请日：2018-07-31
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属材料化学领域，涉及一种荧光和磁共振双模成像碳纳米点的制备方法。本发明采用简单的两步修饰碳纳米点策略，首先合成二乙三胺五乙酸环酸酐(简称cDTPAa)，并将其共价连接在具有荧光性质的碳纳米点表面，然后利用二乙三胺五乙酸(简称DTPA)和Gd3+的强烈配位作用继而成功修饰Gd3+。本发明制备荧光/磁共振双模态成像碳纳米点的方法简单易行，制得的碳纳米点荧光和磁共振具两种成像性质，降低了Gd-DTPA的毒性，并且增强了其T1加权磁共振成像造影能力，协同荧光成像有望进一步改善临床上对脑胶质瘤的诊断，从而指导治疗。
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