光敏性导电光刻胶及其制备方法和基于此光刻胶的光刻图案化工艺

    公开(公告)号:CN116699942A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202210186701.3

    申请日:2022-02-28

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 魏大程 张申

    Abstract: 本发明提供了一种光敏性导电光刻胶及其制备方法和基于此光刻胶的光刻图案化工艺,光刻胶组成包括:导电高分子、光活性纳米粒子、可交联单体、光引发剂、氧清除剂、溶剂。所述光引发剂在紫外光下产生自由基,引发所述可交联单体的聚合固化反应形成交联网络;所述导电高分子与聚合物形成纳米互穿网络,使光刻胶具有半导体性;所述光活性纳米粒子通过大体积镶嵌在网络中而不脱落,使光刻胶具有高光电响应性;所述氧清除剂保证了固化反应不受空气中水氧干扰。本发明提供的光刻胶可以在紫外光下通过特定工艺图案化,具有亚微米的精度,可以用作有机光电元件的传输层材料,制备的光敏传感器对紫外至近红外光有高光响应度。

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