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发明公开
制造超晶格材料的快速递变退火方法无效

公开(公告)号：CN1364313A

公开(公告)日：2002-08-14

申请号：CN01800486.5

申请日：2001-02-07

Applicant: 塞姆特里克斯公司 , 松下电器产业株式会社

Inventor： 内山洁 , 有田浩二 , 纳拉杨·索拉亚鹏 , 卡罗斯·A·帕兹德阿罗

IPC: H01L27/11 , C30B29/68

CPC classification number: H01L21/28291 , C30B7/00 , C30B7/005 , C30B29/68

Abstract: 一种用于形成层状超晶格材料的液态母体被涂覆(324)在集成电路衬底(122,224,508)。利用递变率为每秒50℃的快速递变退火(“RRA”)技术(328),在650℃之维持温度下对该母体涂层在氧气中进行时间为30分钟之维持时间的退火。

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