公开(公告)号：CN117063260A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202280024423.X

申请日：2022-03-17

Applicant: 塔斯米特株式会社

Inventor： 金子功次

IPC: H01J37/22

Abstract: 本发明的方法中，决定工件的表面内的基准区域，根据基准区域内的图案的设计数据来计算基准区域的图案密度，决定多个调整区域，所述多个调整区域具有在规定范围内与计算出的图案密度近似的图案密度，借助扫描电子显微镜来生成基准区域的图像，借助扫描电子显微镜来生成多个调整区域中的一个调整区域的图像，以所述一个调整区域的图像的亮度的直方图与基准区域的图像的亮度的直方图的差减小的方式对用于调整所述一个调整区域的图像的亮度的参数的设定值进行调整，借助扫描电子显微镜来生成工件的表面内的多个中间区域的多个图像。

公开(公告)号：CN111919087B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201980022609.X

申请日：2019-03-12

Applicant: 塔斯米特株式会社

Inventor： 金子功次

IPC: G01B15/04 ,  G01N23/2251 ,  G06T7/00 ,  G06T7/13 ,  H01L21/66

Abstract: 本方法是一种生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系的校正线的方法，包括如下工序：制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图，获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像，计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量，将根据所述多个空间宽度与所述边缘的偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上，根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。

公开(公告)号：CN111919087A

公开(公告)日：2020-11-10

申请号：CN201980022609.X

申请日：2019-03-12

Applicant: 塔斯米特株式会社

Inventor： 金子功次

IPC: G01B15/04 ,  G01N23/2251 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66

Abstract: 本方法是一种生成表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系的校正线的方法，包括如下工序：制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图，获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像，计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量，将根据所述多个空间宽度与所述边缘的偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上，根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。