公开(公告)号：CN1867428B

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN200480029687.6

申请日：2004-09-07

Applicant: 圣戈本磨料股份有限公司

Inventor： R·W·J·霍尔 ,  J·M·莫尔特 ,  C·A·贝特曼

IPC: B24D11/00

CPC classification number: B24D18/00 ,  B24D3/28 ,  B24D11/00 ,  Y10T428/24372

Abstract: 本发明涉及包含磨粒的磨具，所述磨粒按照不均匀图案定位于阵列中，所述不均匀图案在每个磨粒周围都具有专属区，所述专属区具有大于磨粒所要求粒度范围的最大直径的最小尺寸。本发明描述了设计这种磨粒自规避阵列和将这种阵列转移至磨具主体的方法。

公开(公告)号：CN1867428A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200480029687.6

申请日：2004-09-07

Applicant: 圣戈本磨料股份有限公司

Inventor： R·W·J·霍尔 ,  J·M·莫尔特 ,  C·A·贝特曼

IPC: B24D11/00

CPC classification number: B24D18/00 ,  B24D3/28 ,  B24D11/00 ,  Y10T428/24372

Abstract: 本发明涉及包含磨粒的磨具，所述磨粒按照不均匀图案定位于阵列中，所述不均匀图案在每个磨粒周围都具有专属区，所述专属区具有大于磨粒所要求粒度范围的最大直径的最小尺寸。本发明描述了设计这种磨粒自规避阵列和将这种阵列转移至磨具主体的方法。