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公开(公告)号：CN1267001A
公开(公告)日：2000-09-20
申请号：CN00101869.8
申请日：2000-02-04
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： P·R·瓦拉纳斯 , R·D·阿伦 , T·I·瓦洛 , J·奥皮茨 , R·A·德彼得罗 , M·C·拉森 , A·M·梅惠特 , J·F·马尼斯卡科 , G·M·杰德哈默
IPC: G03F7/028
Abstract: 一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及饱和甾族化合物组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有:i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。
