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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104007623A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410061770.7
申请日：2014-02-24
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。
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公开(公告)号：CN104007623B
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201410061770.7
申请日：2014-02-24
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。
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公开(公告)号：CN101963758B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201010237847.3
申请日：2010-07-23
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106
Abstract: 本发明公开了杯芳烃混合分子的玻璃光致抗蚀剂及使用方法。本发明公开了光致抗蚀剂组合物，包括：至少一种完全保护的杯[4]间苯二酚芳烃和至少一种未保护的杯[4]间苯二酚芳烃的混合物，其中，完全保护的杯[4]间苯二酚芳烃具有用酸不稳定的保护基保护的酚基；光酸产生剂；和溶剂，其中，所述混合物和光酸产生剂可溶于该溶剂中。本发明还公开了使用该光致抗蚀剂组合物在基底上产生抗蚀剂图像的方法。
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公开(公告)号：CN103261137A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180060130.9
申请日：2011-11-21
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C07C39/367 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0046 , C07C39/42 , C07C69/96 , C07C2603/92 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 酚醛分子玻璃如杯芳烃包含至少一种含氟代醇的单元，该含氟代醇的分子玻璃可用于光致抗蚀剂组合物。本发明还公开了利用该光致抗蚀剂组合物在基质上产生光致防蚀影像的方法。
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公开(公告)号：CN101963758A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010237847.3
申请日：2010-07-23
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106
Abstract: 本发明公开了杯芳烃混合分子的玻璃光致抗蚀剂及使用方法。本发明公开了光致抗蚀剂组合物，包括：至少一种完全保护的杯[4]间苯二酚芳烃和至少一种未保护的杯[4]间苯二酚芳烃的混合物，其中，完全保护的杯[4]间苯二酚芳烃具有用酸不稳定的保护基保护的酚基；光酸产生剂；和溶剂，其中，所述混合物和光酸产生剂可溶于该溶剂中。本发明还公开了使用该光致抗蚀剂组合物在基底上产生抗蚀剂图像的方法。
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