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发明公开
非线性光学器件的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN115968450A

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN202180048924.7

申请日：2021-07-14

Applicant: 国立研究开发法人情报通信研究机构 , 住友电气工业株式会社

Inventor： 田泽英久 , 村上泰典 , 大友明 , 山田俊树 , 横滨秀雄 , 上田里永子

IPC: G02B6/13

Abstract: 提供一种非线性光学器件的制造方法。在半导体基板(100)的表面形成凹部(10)。在减压环境下，在凹部(10)填充第1液体材料(31)。第2液体材料(32)与填充至凹部(10)的第1液体材料(31)接触，由此对第3液体材料(33)进行调制。第3液体材料(33)硬化，由此形成埋入部(310)。第1液体材料(31)包含第1溶质和第1溶剂，或者仅由该第1溶剂构成。第2液体材料(32)包含第2溶质和第2溶剂。第2溶质包含非线性光学聚合物。该第2液体材料(32)的该第2溶质的浓度高于该第1液体材料(31)的该第1溶质的浓度。

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