公开(公告)号：CN114641709B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202080077166.7

申请日：2020-12-16

Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 ,  东亚电气工业株式会社

Inventor： 栗原一真 ,  穂苅辽平 ,  福井博章

IPC: G02B1/118 ,  B32B3/30 ,  B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  C03C17/245 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明的防反射结构体在透明的基材(B)的表面部(S)和从各孔(Hn)的底部起的上部方向的空间部(Cn)配置有金属氧化物膜，该透明的基材(B)形成有多个与平坦的表面垂直的方向的截面形状为U字状或V字状的孔(Hn)，关于该各孔(Hn)的形状，开口部的平均直径(m)为50～300nm，与相邻的该开口部之间的各中心点的平均间隔(k)为100～400nm，并且，以表面部(S)为基准的各孔(Hn)的深度(dn)为80～250nm的范围，在该防反射结构体中，配置于各空间部(Cn)的金属氧化物膜的厚度(tn)随着各孔(Hn)的深度(dn)变深而增加，由此，从配置于上述表面部(S)的金属氧化物膜的最表面部(Sm)至配置于各空间部(Cn)内的金属氧化物膜的表面部的各孔(Hn)间的深度(fn)之差减少。

公开(公告)号：CN114641709A

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN202080077166.7

申请日：2020-12-16

Applicant: 国立研究开发法人产业技术综合研究所 ,  东亚电气工业株式会社

Inventor： 栗原一真 ,  穂苅辽平 ,  福井博章

IPC: G02B1/118 ,  B32B3/30 ,  B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  C03C17/245 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明的防反射结构体在透明的基材(B)的表面部(S)和从各孔(Hn)的底部起的上部方向的空间部(Cn)配置有金属氧化物膜，该透明的基材(B)形成有多个与平坦的表面垂直的方向的截面形状为U字状或V字状的孔(Hn)，关于该各孔(Hn)的形状，开口部的平均直径(m)为50～300nm，与相邻的该开口部之间的各中心点的平均间隔(k)为100～400nm，并且，以表面部(S)为基准的各孔(Hn)的深度(dn)为80～250nm的范围，在该防反射结构体中，配置于各空间部(Cn)的金属氧化物膜的厚度(tn)随着各孔(Hn)的深度(dn)变深而增加，由此，从配置于上述表面部(S)的金属氧化物膜的最表面部(Sm)至配置于各空间部(Cn)内的金属氧化物膜的表面部的各孔(Hn)间的深度(fn)之差减少。