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发明公开
一种制备高纯钌靶EBSD样品的方法审中-实审

公开(公告)号：CN111855337A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201910345110.4

申请日：2019-04-26

Applicant: 国标(北京)检验认证有限公司

Inventor： 左玉婷 , 王书明 , 张丽民 , 李聪 , 杜凤贞 , 张智慧 , 张恒磊

IPC: G01N1/28 , G01N1/32

Abstract: 本发明涉及一种制备高纯钌靶EBSD样品的方法，属于EBSD试样制备技术领域。将高纯钌靶线切割成待测试样，进行机械磨抛，清洁干净后再用二氧化硅悬浮液抛光20-30分钟，抛光速度逐渐减慢，最后用清水将试样抛光20-30秒；用中性洗涤剂清洁试样表面，并在水龙头下冲洗试样表面，直至样品表面充分清洗干净，最后吹风机冷风吹干。本发明操作简便，能够去除高纯钌靶的表面机械应力，同时不给样品表面带来污染及组织改变，获得真实高质量的测试样品。

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