公开(公告)号：CN119431922A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411572198.0

申请日：2024-11-05

Applicant: 哈尔滨理工大学

Inventor： 高丛 ,  朱博 ,  黄思睿 ,  雷梓轩 ,  王嘉楠

IPC: C08L23/06 ,  H01B19/00 ,  C08L61/24 ,  C08K9/10 ,  C08K5/5419 ,  C08J7/12 ,  B01J13/02

Abstract: 一种低温等离子体处理的单层壳核微胶囊型聚乙烯基水树自修复绝缘材料的制备，它是一种从根本上延长绝缘材料运行寿命的方法。本发明的目的在于提供一种低温等离子体处理的单层壳核微胶囊型聚乙烯基水树自修复绝缘材料的制备，通过调控等离子参数以及等离子放电时间，调节微胶囊表面特性。等离子体表面处理提高了微胶囊的分散性，更加均匀全面德分布在易发生水树损伤的区域，并且减少了团聚现象的发生，防止发生局部击穿。在具有高的击穿电压特性同时兼备良好自修复特性。微胶囊单层壳核结构可以在水树老化时及时发生反应，既可以提高修复率又可以提升修复速度。本发明可获得一种聚乙烯基复合自修复材料。