公开(公告)号：CN103666277B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201310698733.2

申请日：2013-12-18

Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院

Inventor： 刘向力 ,  罗政纯 ,  吴凌

IPC: C09K13/04

Abstract: 本发明提供了一种酸性抛光液及其在不同晶体抛光中应用，在含有二氧化铈的抛光液中加入硫酸，实现机械抛光与化学抛光的结合，抛光后所得晶体表面粗糙度非常小，具有更好的光学性能，可以制备出性能更好的光学器件。本发明的抛光液和抛光方法适合不同莫氏硬度的晶体，应用范围广，设备要求低，易于产业化使用。

公开(公告)号：CN103666277A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310698733.2

申请日：2013-12-18

Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院

Inventor： 刘向力 ,  罗政纯 ,  吴凌

IPC: C09G1/02 ,  B24B29/00

Abstract: 本发明提供了一种酸性抛光液及其在不同晶体抛光中应用，在含有二氧化铈的抛光液中加入硫酸，实现机械抛光与化学抛光的结合，抛光后所得晶体表面粗糙度非常小，具有更好的光学性能，可以制备出性能更好的光学器件。本发明的抛光液和抛光方法适合不同莫氏硬度的晶体，应用范围广，设备要求低，易于产业化使用。

公开(公告)号：CN104090446A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201410301617.7

申请日：2014-06-27

Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院

Inventor： 刘向力 ,  罗政纯 ,  吴凌

IPC: G02F1/35

Abstract: 本发明提供了一种应力补偿温度对晶体光折射率影响的方法，在光学器件上加入温度监测系统，温度监测系统实时的监控光学器件的工作温度；然后将温度监测系统实时的监控光学器件的工作温度传回到晶体的控制系统；控制系统通过读出的工作温度值，根据温度对光折变指数的影响的图形中温度T与光折变指数Δn对应的关系，求出器件在该工作温度条件下的光折变系数的值；然后对应于正常情况下晶体的应力σ与光折变指数Δn的对应图像中的光折变指数Δn，求出该光折变指数Δn对应的应力σ值，通过控制系统，在器件上加上相应的应力σ值。通过本发明，能够设计出更精确，更为实用的应力光学器件，使得器件的使用范围更广，其性能更为可靠。