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公开(公告)号:CN119989698A
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202510092552.8
申请日:2025-01-21
Applicant: 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)
IPC: G06F30/20 , H01S3/102 , G16C10/00 , G06F119/08
Abstract: 本发明公开了一种基于TTM‑MD仿真的抑制热电子发射方法,所述方法通过调节双脉冲的能量分布与延迟时间,对电子温度进行调控;并根据升温时间与延迟之间的关系,获得在满足加工要求下引入的最大延迟时间。本发明方法通过获得在满足加工要求的前提下能够引入的最大延迟,降低了电子温度,用以抑制热电子发射。