等离子体腔室阵列成像监测装置及空间不均匀性校准方法

    公开(公告)号:CN117457467B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311743459.6

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种等离子体腔室阵列成像监测装置及空间不均匀性校准方法,涉及半导体刻蚀技术领域,解决的技术问题为“开发一种实时监测等离子体放电状态的装置,并对其空间不均匀性进行评估校准”,装置包括:腔室、第一成像监测模块和第二成像监测模块,所述第二成像监测模块与所述第一成像监测模块的轴线垂直;方法包括:通过所述等离子体腔室阵列成像监测装置采集积分光强;基于所述积分光强计算腔室内视线交点光强;通过所述视线交点光强与所述先验分布拟合求解最优分布系数,得到等离子体二维空间分布;评估所述等离子体二维空间分布的不均匀性并校准;该装置及方法通过设置两组相互垂直的光纤形成视线交点,对等离子体不均匀性进行精确的评估校准。

    等离子体腔室阵列成像监测装置及空间不均匀性校准方法

    公开(公告)号:CN117457467A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311743459.6

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种等离子体腔室阵列成像监测装置及空间不均匀性校准方法,涉及半导体刻蚀技术领域,解决的技术问题为“开发一种实时监测等离子体放电状态的装置,并对其空间不均匀性进行评估校准”,装置包括:腔室、第一成像监测模块和第二成像监测模块,所述第二成像监测模块与所述第一成像监测模块的轴线垂直;方法包括:通过所述等离子体腔室阵列成像监测装置采集积分光强;基于所述积分光强计算腔室内视线交点光强;通过所述视线交点光强与所述先验分布拟合求解最优分布系数,得到等离子体二维空间分布;评估所述等离子体二维空间分布的不均匀性并校准;该装置及方法通过设置两组相互垂直的光纤形成视线交点,对等离子体不均匀性进行精确的评估校准。

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