沉积反应基团的多光谱综合监测装置及方法

    公开(公告)号:CN118130375A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410220231.7

    申请日:2024-02-28

    Abstract: 本发明属于等离子体光谱诊断测试领域,具体涉及沉积反应基团的多光谱综合监测装置及方法。将光谱监测装置进行组装与调试;开启机械泵,对PECVD腔室进行抽真空处理;通过气路向PECVD腔室内供入沉积气体SiH4/He,并开启射频电源,电子获得能量,与沉积气体发生碰撞产生活性粒子,沉积到硅基样片表面完镀膜;关闭射频电源;硅基样片在等离子体作用下已经在PECVD腔室完成镀膜沉积后,将其转移至成分监测腔室,以进行薄膜成分分析;空心阴极发射电子轰击已沉积的硅基样片,使用光纤探头监测硅基样品表面发光区域;将监测到的进入光谱仪分光后由探测器成像,由工控机读出数据。实现光谱监测方法对等离子增强化学气相沉积工艺中非晶氢化硅薄膜组分的监测。

    一种氟碳化合物等离子体基团空间分布监测装置及方法

    公开(公告)号:CN117423600B

    公开(公告)日:2024-04-23

    申请号:CN202311743393.0

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种氟碳化合物等离子体基团空间分布监测装置及方法,涉及半导体工业等离子体光谱诊断测试技术领域,装置包括:包括真空腔室、光纤阵列、凸透镜、凹透镜、分光棱镜、两个反应镜、三个滤波片以及三个工业相机;所述光纤阵列、凸透镜、凹透镜以及分光棱镜同轴设置,所述光纤阵列的探测方向垂直于所述真空腔室内的等离子区域;两个所述反应镜分别设置于所述分光棱镜的两侧,第一反应镜、第一滤波片、第一工业相机同轴设置,所述分光棱镜、第二滤波片、第二工业相机同轴设置,第二反应镜、第三滤波片、第三工业相机同轴设置;该装置及方法可以同时获得氟碳化合物等离子体基团在等离子体区域空间位置的绝对浓度,具有原位、同时性、无侵扰的特点。

    一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法

    公开(公告)号:CN117420083B

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202311743392.6

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法,涉及等离子体光谱测试技术领域,解决的技术问题为“如何进行等离子体推进器工部件侵蚀痕量产物监测”,该装置包括金属屏蔽罩,以及设置于所述金属屏蔽罩内部的第一凸透镜、第一反射镜、分光棱镜、第二凸透镜、光栅以及第二反射镜,以及设置于所述金属屏蔽罩外部的光电倍增管和分析处理设备;所述金属屏蔽罩侧壁上固定有入射光狭缝和出射光狭缝,所述出射光狭缝与所述光电倍增管连接,所述光电倍增管与所述分析处理设备连接;该装置及方法设计了光谱仪设备对痕量产物谱线光强进行监测,建立痕量物质辐射谱线强度和光强信号波动关系,以获得痕量产物绝对密度,可靠性高,监测灵敏。

    一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法

    公开(公告)号:CN117420083A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311743392.6

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法,涉及等离子体光谱测试技术领域,解决的技术问题为“如何进行等离子体推进器工部件侵蚀痕量产物监测”,该装置包括金属屏蔽罩,以及设置于所述金属屏蔽罩内部的第一凸透镜、第一反射镜、分光棱镜、第二凸透镜、光栅以及第二反射镜,以及设置于所述金属屏蔽罩外部的光电倍增管和分析处理设备;所述金属屏蔽罩侧壁上固定有入射光狭缝和出射光狭缝,所述出射光狭缝与所述光电倍增管连接,所述光电倍增管与所述分析处理设备连接;该装置及方法设计了光谱仪设备对痕量产物谱线光强进行监测,建立痕量物质辐射谱线强度和光强信号波动关系,以获得痕量产物绝对密度,可靠性高,监测灵敏。

    一种推进器通道侵蚀速率在线校准装置及校准方法

    公开(公告)号:CN117233079A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311489414.0

    申请日:2023-11-10

    Abstract: 本发明提出了一种推进器通道侵蚀速率在线校准装置及校准方法,属于航天等离子体推进器领域。解决了现有等离子体推进器通道侵蚀速率难以进行在线校准的问题。在线校准装置包括光学探头、光谱仪和空心阴极,空心阴极包括导气管、发射体、顶孔板和通道管壁,发射体和顶孔板依次设置在导气管内部,导气管设置在通道管壁的内部,通道管壁的内壁面上设置有衬垫层,衬垫层的材料与推进器通道壁面的材料相同,空心阴极设置在空心阴极真空罐内,空心阴极与空心阴极供气单元和空心阴极电源相连,光学探头设置在空心阴极真空罐或推进器真空罐内,光学探头与光谱仪相连。它主要用于推进器通道侵蚀速率在线校准。

    一种等离子体化学反应中间产物的脉冲光电探针监测装置

    公开(公告)号:CN117420120B

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202311743366.3

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体化学反应中间产物的脉冲光电探针监测装置,涉及等离子体诊断技术领域,解决了现有等离子体光学诊断方法信噪比低、无法检测不发光物质、设备昂贵、灵敏性差的问题。本发明包括放电圆环、支撑装置、绝缘管、导电线和光纤,光纤表面设置有导电涂层,导电涂层与外部设备连接;光纤外部套装有绝缘管;光纤头部的导电涂层上开设有光学窗口,另一端和外部设备连接;光纤上对应光学窗口的位置处设置有放电圆环;放电圆环与地线连接。本发明通过通过控制放电结构内的电子参数,对探针头部位置的物质进行不同程度激发,当中间产物被激发为可荧光激发态后,发光被光学窗口采集并传输至光谱仪,实现对多种不发光中间产物进行探测。

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