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公开(公告)号：CN101870165A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010206856.6
申请日：2010-06-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 连续浮雕阳模的止挡栅结构属于微光学元件加工技术；在阳模的连续浮雕结构的周边外围设有止挡栅结构，止挡栅结构下端面低于连续浮雕结构下端面，可用于承载作用于压模的总压力，并以栅形设计减小结构下方抗蚀剂所需横向流动的距离，克服了连续浮雕阳模的尖锐顶部结构在压印中易受损伤的问题，并保持了阳模的良好填充效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101131538A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710144392.9
申请日：2007-09-29
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 应用热压印技术制作微光学元件的方法，涉及光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下四个步骤：①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模；②应用热压印将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；③以聚合物结构为掩模，应用反应离子刻蚀技术在基片上获得浮雕结构；④根据制作需要按上述①～③步骤进行一次或者重复①～③步骤，直至加工完成最终的微光学元件；本方法具有工艺简单、精度高、速度快、重复性好、费用低、产率高的特点。
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公开(公告)号：CN101221359A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810063985.7
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法，涉及微光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的反射式微光学元件包括以下五个步骤：①应用微细加工技术制备用于热压印的压模；②应用热压印将压模的浮雕结构压印到聚合物薄片上；③在具有表面浮雕结构的聚合物表面蒸镀金属层；④应用电铸技术进行支撑结构加工，材料与蒸镀金属一致；⑤将聚合物剥离。本发明所得到的反射式微光学元件为单一金属材料，在高温等恶劣的工作环境下具有高稳定性，高强度、高硬度、高抗辐射损伤阈值的特点。
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公开(公告)号：CN101870165B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201010206856.6
申请日：2010-06-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 连续浮雕阳模的止挡栅结构属于微光学元件加工技术；在阳模的连续浮雕结构的周边外围设有止挡栅结构，止挡栅结构下端面低于连续浮雕结构下端面，可用于承载作用于压模的总压力，并以栅形设计减小结构下方抗蚀剂所需横向流动的距离，克服了连续浮雕阳模的尖锐顶部结构在压印中易受损伤的问题，并保持了阳模的良好填充效果。
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公开(公告)号：CN101221359B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200810063985.7
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于热压印技术的金属材料反射式微光学元件加工方法，涉及微光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶或连续浮雕结构特征的反射式微光学元件包括以下五个步骤：①应用微细加工技术制备用于热压印的压模；②应用热压印将压模的浮雕结构压印到聚合物薄片上；③在具有表面浮雕结构的聚合物表面蒸镀金属层；④应用电铸技术进行支撑结构加工，材料与蒸镀金属一致；⑤将聚合物剥离。；本发明所得到的反射式微光学元件为单一金属材料，在高温等恶劣的工作环境下具有高稳定性，高强度、高硬度、高抗辐射损伤阈值的特点。
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公开(公告)号：CN101231463A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810063984.2
申请日：2008-02-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于紫外压印的多相位与连续浮雕结构光学元件制作方法涉及光学元件制作技术；该方法制作具有多台阶与连续浮雕结构特征的微光学元件包括以下三个步骤：①应用微细加工技术制备具有表面浮雕结构的压模；②应用纳米压印技术将压模上的浮雕结构压印到基片上的聚合物上；其特征在于，该方法所使用的纳米压印技术为紫外压印技术，并且该方法还包括以下步骤，③以聚合物结构为掩模，通过干法刻蚀技术实现微细结构图形向硬质基片的传递，应用该方法可以实现单一材料且表面具有多相位或连续浮雕结构的非聚合物硬质光学材料微光学元件的加工，较传统方法具有更大的加工能力。
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