无机薄膜及其制备方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101333076B

    公开(公告)日:2011-11-30

    申请号:CN200810136853.2

    申请日:2008-07-31

    Abstract: 无机薄膜及其制备方法,它涉及薄膜及其制备方法。它解决了现有无机薄膜的制备工艺复杂、设备要求高、成膜条件苛刻、成本高、产品易开裂、易脱落的问题。无机薄膜由有机化合物单体、水、催化剂、溶剂A、溶剂B和有机硅高分子制成。制备方法:制备有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液,采用喷涂、浸涂或刷涂的方式将该溶液涂于物体表面,经热处理即得到无机薄膜。本发明得到的薄膜制备方法简单易行、成膜条件容易、对设备要求简单、成本低廉,可广泛的应用于金属表面的抗氧化薄膜,负载催化剂的多孔膜,具有发光特性的发光薄膜,抗磨擦膜、多孔过滤膜、传感器结构膜的使用。

    无机薄膜及其制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101333076A

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200810136853.2

    申请日:2008-07-31

    Abstract: 无机薄膜及其制备方法,它涉及薄膜及其制备方法。它解决了现有无机薄膜的制备工艺复杂、设备要求高、成膜条件苛刻、成本高、产品易开裂、易脱落的问题。无机薄膜由有机化合物单体、水、催化剂、溶剂A、溶剂B和有机硅高分子制成。制备方法:制备有机-无机混杂薄膜的前驱体溶液,采用喷涂、浸涂或刷涂的方式将该溶液涂于物体表面,经热处理即得到无机薄膜。本发明得到的薄膜制备方法简单易行、成膜条件容易、对设备要求简单、成本低廉,可广泛的应用于金属表面的抗氧化薄膜,负载催化剂的多孔膜,具有发光特性的发光薄膜,抗磨擦膜、多孔过滤膜、传感器结构膜的使用。

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