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公开(公告)号：CN117139107B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202310851351.2
申请日：2023-07-12
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
Abstract: 本发明公开了一种具有分级光吸收结构的超黑涂层及其制备方法和应用，属于超黑涂层及其制备技术领域。本发明解决了传统超黑涂层本征光吸收性能较低，大角度散射较大的问题。本发明采用炭黑‑二氧化硅共混组分作为超黑功能基元材料，采用硅酸钾树脂作为涂层颜料主体，采用浓度梯度喷涂方式制备涂层主体，并采用离子束溅射技术在涂层表面制备微米级微孔，从而实现涂层多界面多尺度协同吸收机制，提升涂层高吸收与大角度低散射性能。
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公开(公告)号：CN119535656A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411757378.6
申请日：2024-12-03
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种具有广角吸收的超黑涂层及其制备方法和应用，属于超黑涂层及其制备技术领域。本发明解决了现有超黑涂层无法在大角度入射光下呈现出极低散射和高的吸收率。本发明使用炭黑为吸收剂，耐高温硅溶胶溶液作为粘结剂，采用一步烧结法形成稳定结构的同时，构建具有森林状光陷阱阵列结构的超黑涂层。利用超黑涂层表面森林状阵列结构显著地改变了涂层表面的折射率，从而降低其表面光学反射；表面类森林状光陷阱结构紧密排列，能够使得各个角度入射的光在其结构内部来回反射，进而最大程度地吸收入射光，实现广角下稳定的高光吸收，使超黑涂层的反射率不随入射光的角度而明显变化，提升空间光学系统深空探测精度。
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公开(公告)号：CN117139107A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202310851351.2
申请日：2023-07-12
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 哈尔滨工业大学重庆研究院
Abstract: 本发明公开了一种具有分级光吸收结构的超黑涂层及其制备方法和应用，属于超黑涂层及其制备技术领域。本发明解决了传统超黑涂层本征光吸收性能较低，大角度散射较大的问题。本发明采用炭黑‑二氧化硅共混组分作为超黑功能基元材料，采用硅酸钾树脂作为涂层颜料主体，采用浓度梯度喷涂方式制备涂层主体，并采用离子束溅射技术在涂层表面制备微米级微孔，从而实现涂层多界面多尺度协同吸收机制，提升涂层高吸收与大角度低散射性能。
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公开(公告)号：CN113245161B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202110401091.X
申请日：2021-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有紫外波段高吸收的超黑涂层的制备方法，属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有的常规喷涂工艺制备超黑涂层普遍存在紫外波段吸收率较低的问题。本发明以炭黑作为黑色着色剂，通过调控多层喷涂工艺中炭黑着色剂质量分数构建具有浓度梯度过渡的可控结构膜层，并采用原子层沉积技术在超黑涂层表面沉积TiO2薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑涂层表面杂散光抑制结构的基础上进一步提升超黑材料的紫外波段吸收率，扩展此种超黑涂层在空间光学领域的应用空间。
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公开(公告)号：CN116559074A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310426679.X
申请日：2023-04-20
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明提出了一种涂层原位大角度散射测试系统及其测试方法，属于空间光学系统杂散光测试领域。解决了如何开发新型涂层立体表面大角度散射测试，对涂层实施在遮光罩表面后的实际杂散光抑制性能评估的问题。该系统的双柱罐、挡光屏、平行光管和光源集成系统均位于实验室内，光源集成系统通过平行光管发出光照向双柱罐，双柱罐内设置有转台，转台上设置有三维平移台，三维平移台上设置有遮光罩，遮光罩的内壁涂有待测涂层样品，遮光罩的出口端安装有通光口调整板，遮光罩的后方设置有探测器，光源集成系统与双柱罐间设置有挡光屏。本发明能够贴近涂层在遮光罩上实际应用时所展现出的效果，从而更加准确地评估涂层的杂散光抑制综合能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113263744A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110399783.5
申请日：2021-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B29C69/00 , B29C64/118 , B29C48/05 , C23C16/455 , C23C16/40 , B33Y10/00
Abstract: 本发明公开了一种具有红外波段高吸收的3D打印超黑材料的制备方法；属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有3D打印技术制备的超黑材料普遍存在的红外波段吸收率较低的问题。本发明通过调控3D打印喷涂工艺制备出可控表面几何结构、内壁微孔结构的杂散光抑制用超黑材料，并采用原子层沉积技术在超黑材料表面沉积AZO薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑材料杂散光抑制结构(内壁微孔，几何结构)的基础上进一步提升超黑材料的红外波段吸收率，扩展该3D打印黑色材料在空间光学领域的应用空间。
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公开(公告)号：CN117720099A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202310468200.9
申请日：2023-04-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C01B32/184 , C01B32/194 , C01G9/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C09C1/46 , C09C3/06
Abstract: 本发明公开了一种隐身颜料及其制备方法和在柔性多谱段兼容光学隐身涂层中的应用，属于光学功能材料及其制备技术领域。本发明解决了现有传统隐身涂层在可见、红外和微波波段范围内隐身效果不良，且不无法应用于柔性基底的缺点。本发明首先制备了具有优异的可见光与微波吸收性能的石墨烯纳米卷，然后在石墨烯纳米卷表面离散分布沉积氧化锌得到隐身颜料，该隐身颜料现兼具可见‑红外‑微波的隐身性能。此外，本发明利用隐身颜料制备的隐身涂层为柔性涂层，能够贴合不规则物体的表面,适应不同运动，能够承受更多次拉伸、弯曲和压力，具有更高稳定性和可靠性，在柔性涂层材料领域具有极大的应用潜力。
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公开(公告)号：CN113245161A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110401091.X
申请日：2021-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有紫外波段高吸收的超黑涂层的制备方法，属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有的常规喷涂工艺制备超黑涂层普遍存在紫外波段吸收率较低的问题。本发明以炭黑作为黑色着色剂，通过调控多层喷涂工艺中炭黑着色剂质量分数构建具有浓度梯度过渡的可控结构膜层，并采用原子层沉积技术在超黑涂层表面沉积TiO2薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑涂层表面杂散光抑制结构的基础上进一步提升超黑材料的紫外波段吸收率，扩展此种超黑涂层在空间光学领域的应用空间。
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公开(公告)号：CN117720099B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310468200.9
申请日：2023-04-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C01B32/184 , C01B32/194 , C01G9/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C09C1/46 , C09C3/06
Abstract: 本发明公开了一种隐身颜料及其制备方法和在柔性多谱段兼容光学隐身涂层中的应用，属于光学功能材料及其制备技术领域。本发明解决了现有传统隐身涂层在可见、红外和微波波段范围内隐身效果不良，且不无法应用于柔性基底的缺点。本发明首先制备了具有优异的可见光与微波吸收性能的石墨烯纳米卷，然后在石墨烯纳米卷表面离散分布沉积氧化锌得到隐身颜料，该隐身颜料现兼具可见‑红外‑微波的隐身性能。此外，本发明利用隐身颜料制备的隐身涂层为柔性涂层，能够贴合不规则物体的表面,适应不同运动，能够承受更多次拉伸、弯曲和压力，具有更高稳定性和可靠性，在柔性涂层材料领域具有极大的应用潜力。
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公开(公告)号：CN116559074B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202310426679.X
申请日：2023-04-20
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明提出了一种涂层原位大角度散射测试系统及其测试方法，属于空间光学系统杂散光测试领域。解决了如何开发新型涂层立体表面大角度散射测试，对涂层实施在遮光罩表面后的实际杂散光抑制性能评估的问题。该系统的双柱罐、挡光屏、平行光管和光源集成系统均位于实验室内，光源集成系统通过平行光管发出光照向双柱罐，双柱罐内设置有转台，转台上设置有三维平移台，三维平移台上设置有遮光罩，遮光罩的内壁涂有待测涂层样品，遮光罩的出口端安装有通光口调整板，遮光罩的后方设置有探测器，光源集成系统与双柱罐间设置有挡光屏。本发明能够贴近涂层在遮光罩上实际应用时所展现出的效果，从而更加准确地评估涂层的杂散光抑制综合能力。
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