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公开(公告)号：CN111792719A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201910694816.1
申请日：2019-07-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C02F1/72 , C02F1/32 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开了一种去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，涉及污水深度处理技术领域，技术方案为：取污水，加入氧化剂，紫外线照射处理。本发明采用一种新型的高级氧化工艺，利用UV激活过一硫酸盐/过二硫酸盐产生硫酸根自由基(SO4·–)和羟基自由基(·OH)，再通过具有强氧化能力的自由基以及UV对细菌的损伤来去除ARGs和ARB。该高级氧化工艺对环境友好、氧化能力强、不会产生中间污染物，且对ARB和ARGs有较好的去除效果。
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