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公开(公告)号：CN119776764A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411973798.8
申请日：2024-12-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种基于水冷与磁约束的空心阴极细长管筒件内壁快速均匀沉积薄膜的装置及使用方法。它属于表面处理领域。它解决了现有方法受限于空心阴极端口局部温度过高，导致的空心阴极靶变形失效的问题。装置：水冷与磁约束结合。方法：自辉光清洗细长管筒件内壁；空心阴极增强辉光清洗细长管筒件内壁；管筒件内壁沉积。本发明避免空心阴极靶材因局部过热变形失效，配合往复机构使涂层更均匀，可实现细长管筒件内径6mm内壁金属薄膜快速、均匀沉积，能控制表面温度变化，确保材料力学性能。相比传统方法，本发明离子源在管内产生，避免能量损耗，提高溅射效率，且可通过往复机构步进溅射调控镀膜均匀性，满足不同行业对细管内壁膜层厚度和均匀性要求。
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