一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法

    公开(公告)号:CN110954565A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201911359367.1

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。

    一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法

    公开(公告)号:CN110954565B

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN201911359367.1

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。

    一种聚焦离子束清理透射电子显微镜光阑的方法

    公开(公告)号:CN111266368A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010067583.5

    申请日:2020-01-20

    Abstract: 一种聚焦离子束清理透射电子显微镜光阑的方法,本发明涉及清理透射电子显微镜光阑的方法。本发明要解决现有透射电子显微镜中的光阑污染及堵塞后无法清理的问题。方法:一、透射电子显微镜光阑固定与区域观察;二、透射电子显微镜光阑粗加工;三、透射电子显微镜光阑细加工;四、透射电子显微镜光阑精加工,即完成聚焦离子束清理透射电子显微镜光阑的方法。本发明适用于清理透射电子显微镜光阑。

    超低温原位拉伸台及扫描电镜超低温原位拉伸测试系统

    公开(公告)号:CN113138130B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202110435406.2

    申请日:2021-04-22

    Abstract: 超低温原位拉伸台及扫描电镜超低温原位拉伸测试系统,它涉及超低温力学性能测试领域。本发明解决了传统拉伸性能测试无法动态捕捉材料在超低温环境下裂纹萌生、扩展及颈缩和断裂的问题。本发明的低温制冷器安装在底板的制冷器预留方孔内,第一丝杠组件和第二丝杠组件并排设置在底板上方,且两端分别与两个侧板可转动连接,驱动装置安装在机架的一个侧板的外端面上,驱动装置的两个动力输出端分别与第一丝杠组件和第二丝杠组件连接;第一夹具组件安装在第一滑块固定组件靠近低温制冷器一侧的端面上,第二夹具组件安装在第二滑块固定组件靠近低温制冷器一侧的端面上。本发明用于动态捕捉材料在超低温环境下裂纹萌生、扩展及颈缩和断裂。

    一种加工金属基硬质涂层透射电镜原位力学试样的方法

    公开(公告)号:CN111044543B

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201911424592.9

    申请日:2019-12-31

    Abstract: 一种聚焦离子束加工金属基硬质涂层透射电镜原位力学试样的方法,本发明涉及透射电镜原位力学试样的制备方法。本发明要解决现有目前常用的透射电镜原位力学测试系统无法实现最佳的衍射分析条件和获得最佳的衍射结果,常用的透射电镜制样技术在透射电镜原位力学测试系统中无法准确分析金属基硬质涂层材料在原位力学测试过程中变形和断裂问题。方法:一、预处理;二、电化学抛光处理;三、扫描电镜观察;四、聚焦离子束加工;五、铜支架加工,即完成聚焦离子束加工金属基硬质涂层透射电镜原位力学试样的方法。

Patent Agency Ranking