公开(公告)号：CN113578364B

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202110895750.X

申请日：2021-08-05

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 丁杰 ,  杨珊珊 ,  邢德峰 ,  张婧妍 ,  孙汉钧

IPC: B01J27/24 ,  B01J23/745 ,  B01J21/06 ,  B01J35/10 ,  B01J37/03 ,  C02F1/30 ,  C02F101/30 ,  C02F101/34 ,  C02F101/38

Abstract: 本发明公开了一种分子印记光催化材料及其制备方法和应用，属于光催化材料技术领域。本发明所述分子印记光催化材料由二氧化钛、氧化铁和氮化碳组成。本发明通过将分子印迹二氧化钛与氧化铁和氮化碳复合，降低了二氧化钛的禁带宽度，使所制备的分子印迹催化材料在自然光下即可产生光生电子和空穴；同时本发明所制备的分子印迹催化材料为三元材料，利用三元材料的激子效应，来提高光催化材料光生电子和空穴的分离度，提高光催化效率，从而提高光催化降解污染物性能，在复杂水体净化等领域具有很好的应用前景。

公开(公告)号：CN113578364A

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202110895750.X

申请日：2021-08-05

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 丁杰 ,  杨珊珊 ,  邢德峰 ,  张婧妍 ,  孙汉钧

IPC: B01J27/24 ,  B01J23/745 ,  B01J21/06 ,  B01J35/10 ,  B01J37/03 ,  C02F1/30 ,  C02F101/30 ,  C02F101/34 ,  C02F101/38

Abstract: 本发明公开了一种分子印记光催化材料及其制备方法和应用，属于光催化材料技术领域。本发明所述分子印记光催化材料由二氧化钛、氧化铁和氮化碳组成。本发明通过将分子印迹二氧化钛与氧化铁和氮化碳复合，降低了二氧化钛的禁带宽度，使所制备的分子印迹催化材料在自然光下即可产生光生电子和空穴；同时本发明所制备的分子印迹催化材料为三元材料，利用三元材料的激子效应，来提高光催化材料光生电子和空穴的分离度，提高光催化效率，从而提高光催化降解污染物性能，在复杂水体净化等领域具有很好的应用前景。