公开(公告)号：CN1322167C

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200410044011.6

申请日：2004-11-05

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 田修波 ,  崔江涛 ,  杨士勤

IPC: C23C28/00

Abstract: 复合等离子体表面处理装置。本发明涉及一种工件表面处理装置。扩散泵(2)通过管道(4)与真空室(1-2)和旋片泵(3)相连接，真空室1-2的上盖1-3与二级真空室(6-1)相连接，真空室(1-2)的侧壁上设有观察窗(1-6)，真空室(1-2)的侧壁上装有磁控溅射靶(1-4)、真空阴极弧(1-5)，真空室(1-2)内腔装有射频天线(1-7)和样品台(1-10)，样品台(1-10)与中心电极(10-1)相连接，中心电极(10-1)与真空室(1-2)的底座之间装有绝缘套(1-13)，绝缘套(1-13)与中心电极(10-1)之间装有密封件(1-14)，中心电极(10-1)上的电刷(10-2)与高压电缆(9-1)相连接。本装置通过产生多种粒子使工件表面获得较厚的膜层和膜层多样化。本装置用于工件表面复合等离子体处理上。

公开(公告)号：CN1603466A

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN200410044011.6

申请日：2004-11-05

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 田修波 ,  崔江涛 ,  杨士勤

IPC: C23C28/00

Abstract: 复合等离子体表面处理装置。本发明涉及一种工件表面处理装置。扩散泵(2)通过管道(4)与真空室(1－2)和旋片泵(3)相连接，真空室1－2的上盖1－3与二级真空室(6－1)相连接，真空室(1－2)的侧壁上设有观察窗(1－6)，真空室(1－2)的侧壁上装有磁控溅射靶(1－4)、真空阴极弧(1－5)，真空室(1－2)内腔装有射频天线(1－7)和样品台(1－10)，样品台(1－10)与中心电极(10－1)相连接，中心电极(10－1)与真空室(1－2)的底座之间装有绝缘套(1－13)，绝缘套(1－13)与中心电极(10－1)之间装有密封件(1－14)，中心电极(10－1)上的电刷(10－2)与高压电缆(9－1)相连接。本装置通过产生多种粒子使工件表面获得较厚的膜层和膜层多样化。本装置用于工件表面复合等离子体处理上。