一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品

    公开(公告)号:CN117742075A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311496126.8

    申请日:2023-11-10

    Abstract: 本发明涉及一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品,属于纳米压印技术领域。本发明公开了一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶,所述紫外光固化压印胶的配方包括:含Si‑H的甲基环硅氧烷10~90%、含乙烯基的甲基环硅氧烷10~90%、紫外光催化剂0.1~1%、活性稀释剂0.1~10%、含氟表面活性剂0.1~10%、其他微量助剂0.01~5%;所述配方中硅氧烷的含量为50~70%;所述含Si‑H的甲基环硅氧烷中的Si‑H、含乙烯基的甲基环硅氧烷中的乙烯基的比值1:(0.5~2)。本发明还公开了一种压印方法及厚度为10~500nm,单列宽为10~500nm的紫外光固化压印胶。本发明的具有纳米尺度图案的紫外光固化压印胶形状准确,边界清晰,分辨率高;可进一步加工刻蚀,可具有较强的抗刻蚀能力与刻蚀选择性。

    一种具有分层结构的含苝聚芳醚基超疏水辐射冷却薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN116622119A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310607194.0

    申请日:2023-05-26

    Abstract: 一种具有分层结构的含苝聚芳醚基超疏水辐射冷却薄膜及其制备方法,包括(1)通过对氟双酚A类、十氟联苯和DFPP缩聚制得含苝聚芳醚;(2)将含苝聚芳醚溶解于极性非质子溶剂中制成均匀的溶液。(3)将溶液浇筑于玻璃板上,浸没到非溶剂凝固浴中进行相转换,再浸没到去离子水中去除残余溶剂,最后在室温下干燥,即得到具有分层结构的含苝聚芳醚薄膜。所得辐射冷却薄膜具有高反射率、高透过率、良好的辐射制冷效果等优点,还具有类似荷叶的自清洁性能确保户外使用的耐久性。该辐射冷却薄膜制备简单,适合工业化生产,具有广泛的应用前景。

    一种宽谱低反射耐高温邻苯二甲腈树脂及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN117510840A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311492481.8

    申请日:2023-11-10

    Abstract: 本发明涉及一种宽谱低反射耐高温邻苯二甲腈树脂及其制备方法与应用,属于高分子材料技术领域。本发明公开了一种宽谱低反射耐高温邻苯二甲腈树脂,所述邻苯二甲腈树脂的原料,按重量份数计,包括:邻苯二甲腈A类化合物100份,耐高温B类化合物0~100份,填料0~100份,固化剂1~50份;所述邻苯二甲腈A类化合物为常温下为液态的邻苯二甲腈单体。本发明还公开一种宽谱低反射耐高温邻苯二甲腈树脂的制备方法,所述制备方法包括:在惰性气氛和/或空气氛围下,将原料混合后加热固化。本发明制备的宽谱低反射耐高温邻苯二甲腈树脂具有宽谱、低反射、耐高温的特点,可广泛应用于汽车、航空航天、光学器件等领域。

    一种具有分层结构的含苝聚芳醚基超疏水辐射冷却薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN116622119B

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202310607194.0

    申请日:2023-05-26

    Abstract: 一种具有分层结构的含苝聚芳醚基超疏水辐射冷却薄膜及其制备方法,包括(1)通过对氟双酚A类、十氟联苯和DFPP缩聚制得含苝聚芳醚;(2)将含苝聚芳醚溶解于极性非质子溶剂中制成均匀的溶液。(3)将溶液浇筑于玻璃板上,浸没到非溶剂凝固浴中进行相转换,再浸没到去离子水中去除残余溶剂,最后在室温下干燥,即得到具有分层结构的含苝聚芳醚薄膜。所得辐射冷却薄膜具有高反射率、高透过率、良好的辐射制冷效果等优点,还具有类似荷叶的自清洁性能确保户外使用的耐久性。该辐射冷却薄膜制备简单,适合工业化生产,具有广泛的应用前景。

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