公开(公告)号：CN101353783A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810064558.0

申请日：2008-05-23

Applicant: 哈尔滨商业大学

Inventor： 孙智慧 ,  林晶 ,  刘壮 ,  高德

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/35 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明提供了一种连续绕卷式磁控溅射法制造的陶瓷高阻隔膜装置。它包括沉积室、放卷装置、收卷装置、射频交流电源以及设置在沉积室外部的蝶阀、机械泵、罗茨泵和分子泵，沉积室中间装有镀膜辊，下部装有长方形硅靶，沉积室的两端设有封头，在沉积室上至少设有一个观察窗，所述的沉积室的下部通过蝶阀和管道分别连接有机械泵、罗茨泵和分子泵。本发明的特点在于能连续生产，能较好的解决钟罩式或立式沉积装置不能连续生产、生产能力低下、每次都要重新抽真空的问题，利用长方形极靶可充分利用沉积室空间，便于大规模产业化生产。

公开(公告)号：CN101445916A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200910071214.7

申请日：2009-01-06

Applicant: 哈尔滨商业大学

Inventor： 林晶 ,  刘壮 ,  孙智慧 ,  高德 ,  张莉

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  B65D65/16

Abstract: 本发明提供了一种微波食品包装阻隔膜及制备法与磁控溅射法陶瓷镀膜装置。微波食品包装阻隔膜是采用PET、OPP、BOPP、PE薄膜作基材，将薄膜卷材上料并施加张力，真空室抽真空，设定并调整等离子气源，薄膜放卷进行等离子处理，薄膜等离子沉积并收卷即得的微波食品包装阻隔膜。本发明还涉及一种磁控溅射法陶瓷镀膜装置，是一种连续绕卷式磁控溅射法生产陶瓷高阻隔膜装置，该装置具有6个溅射靶，可以同时溅射一种膜层，也可以溅射复合膜层。本发明具有生产成本低、生产工艺简单、产品质量可靠的优点，可替代进口，节省大量外汇，经济效益也很显著。