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公开(公告)号:CN109930110A
公开(公告)日:2019-06-25
申请号:CN201910280766.2
申请日:2019-04-09
Applicant: 哈尔滨商业大学
IPC: C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/35 , C23C14/56 , H01L31/048 , H01L31/054
Abstract: 本发明公开了一种高增透阻隔复合膜及其制备设备和方法。本发明的高增透阻隔复合膜包括柔性薄膜基材层,柔性薄膜基材层的正反两面由内向外依次设有第一高折射率膜层、第一低折射率阻隔膜层、第二高折射率膜层和第二低折射率阻隔膜层,高增透阻隔复合膜的光学透过率高于95%,透过率年衰减量小于2%,透水率小于1×10-3g/m2·day(室温),透氧率小于1ml/day.atm.m2,实现了薄膜太阳能电池封装前后电池短路电流衰减低于5%,有效提高了薄膜太阳能电池封装盖板的高透光性和耐候性,延长了电池的使用寿命,提高了光电转换效率;高增透阻隔复合膜的制备设备结构简单,成本低,生产效率高;制备方法简单高效。
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公开(公告)号:CN202830159U
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:CN201220357592.9
申请日:2012-07-23
Applicant: 深圳市天星达真空镀膜设备有限公司 , 哈尔滨商业大学
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型提供了一种真空镀膜弧光辉光协同放电物理气相沉积装置,采用离子镀磁控溅射弧光辉光协同放电气相沉积混合薄膜,它包括磁铁、圆柱靶、靶面,磁铁设置在圆柱靶上,靶面设置在圆柱靶外围。采用一改常用的平面靶及垂直放置的方式,采用多弧圆柱靶水平放在工件篮下方,而圆柱磁控溅射靶水平放置在工件篮上方,多弧圆柱靶水平放在工件篮下方避免靶材上飞溅出来的大的颗粒沉积到工件上,两个不同的靶共放电沉积,一方面利用多弧靶的高离化率提高整个沉积过程的离化率,以增加膜层的结合力,同时在多弧离子镀大颗粒沉积的同时,也沉积磁控溅射的小颗粒沉积,这样提高膜层的致密性。
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公开(公告)号:CN212894950U
公开(公告)日:2021-04-06
申请号:CN202021312845.1
申请日:2020-07-07
Applicant: 哈尔滨商业大学
IPC: C23C14/35 , C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/10 , C23C14/06 , C08J7/04 , C08J7/048 , C08J7/046 , C08J7/06 , C08L67/04
Abstract: 本实用新型公开了一种复合膜,属于复合材料的技术领域。本实用新型的复合膜依次包括生物降解基层、加硬强化膜层、增透阻隔膜层、超硬纳米堆砌膜层和防油污防指纹膜层。本实用新型的复合膜可进行生物降解,具有重量轻、耐油污、高阻隔和高透过的特点,可用于包装和柔性器件的封装等。
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公开(公告)号:CN204550708U
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201520213127.1
申请日:2015-04-02
Applicant: 深圳市天星达真空镀膜设备有限公司 , 哈尔滨商业大学
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本实用新型提供了一种鼠笼型摆线式工件架,它包括前导轨、鼠笼型工件篮、后导轨、传动座、电动机、齿轮、支撑架和光电开关,前导轨和后导轨设置在支撑架上,支撑架连接传动座,传动座连接电动机和光电开关,鼠笼型工件篮设置在前导轨和后导轨上,齿轮安装在支撑架的一端。本实用新型能使镀制品的薄膜沉积均匀,沉积厚度可控,故显著增加薄膜制备的重复性与可控性,因其结构特点能在其上下区域安装沉积源,致使镀制的生产效率是传统方式的2至3倍。
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