纳米材料协同增效农药抗菌及连续光催化降解除残留技术方法

    公开(公告)号:CN104542707B

    公开(公告)日:2018-02-09

    申请号:CN201310751709.0

    申请日:2013-12-31

    Applicant: 同济大学

    Inventor: 吴庆生 薛敬哲

    Abstract: 本发明涉及一种协同增效农药抗菌及连续光催化降解除残留的新方法,使用纳米材料和农药联合,两者协同增效,并利用模拟日光,光催化降解农药;所述纳米无机材料选择为:纳米ZnO;所述农药为福美双;所述纳米ZnO与福美双按质量浓度比5:1至50:1的比例混合;本发明利用纳米材料协同传统农药福美双防控真菌性病害病原菌,大幅度增加福美双的药效,同时也可以减少福美双的使用量,原料易得,成本低廉,操作简单,以及设备简单,适合于大规模工业生产。

    纳米材料协同增效农药抗菌及连续光催化降解除残留技术方法

    公开(公告)号:CN104542707A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201310751709.0

    申请日:2013-12-31

    Applicant: 同济大学

    Inventor: 吴庆生 薛敬哲

    Abstract: 本发明涉及一种协同增效农药抗菌及连续光催化降解除残留的新方法,使用纳米材料和农药联合,两者协同增效,并利用模拟日光,光催化降解农药;所述纳米无机材料选择为:纳米CuO或ZnO,或者CuO与ZnO两者之间的任意混合;所述农药为福美双;所述纳米ZnO与福美双按质量浓度比5:1至50:1的比例混合;纳米CuO与福美双按质量浓度比25:1至100:1的比例混合。本发明利用纳米材料协同传统农药福美双防控真菌性病害病原菌,大幅度增加福美双的药效,同时也可以减少福美双的使用量,原料易得,成本低廉,操作简单,以及设备简单,适合于大规模工业生产。

Patent Agency Ranking