一种气相沉积装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105695956A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201610191935.1

    申请日:2016-03-30

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: C23C16/4485 C23C16/44

    Abstract: 本发明涉及一种气相沉积装置,包括反应腔体(1),还包括反应物注入组件、真空减压组件和温度控制组件,所述的反应物注入组件和真空减压组件均与反应腔体(1)连通;将基底物(2)放入反应腔体(1)中,用真空减压组件将反应腔体(1)抽真空后,关闭真空减压组件,通过反应物注入组件将反应物注入反应腔体(1)中,通过温度控制组件控制反应腔体(1)内的温度,使得反应物气化并沉积在基底物(2)表面。与现有技术相比,本发明具有操作方便、气相沉积过程可控、结构简单、成本低廉并且适合大规模商业化应用等优点。

    一种气相沉积装置的使用方法

    公开(公告)号:CN105695956B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201610191935.1

    申请日:2016-03-30

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种气相沉积装置,包括反应腔体(1),还包括反应物注入组件、真空减压组件和温度控制组件,所述的反应物注入组件和真空减压组件均与反应腔体(1)连通;将基底物(2)放入反应腔体(1)中,用真空减压组件将反应腔体(1)抽真空后,关闭真空减压组件,通过反应物注入组件将反应物注入反应腔体(1)中,通过温度控制组件控制反应腔体(1)内的温度,使得反应物气化并沉积在基底物(2)表面。与现有技术相比,本发明具有操作方便、气相沉积过程可控、结构简单、成本低廉并且适合大规模商业化应用等优点。

    一种具有均匀核壳结构的复合材料的低成本制备方法

    公开(公告)号:CN105688762B

    公开(公告)日:2018-07-24

    申请号:CN201610191962.9

    申请日:2016-03-30

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种具有均匀核壳结构的复合材料的低成本制备方法,该方法包括以下步骤:(1)将基底材料置于反应腔体中,抽真空使反应腔体内呈真空状态;(2)将催化剂注入反应腔体中,调控温度使催化剂气化,沉积在基底材料的表面;(3)将反应腔体中多余的催化剂除去,再次抽真空使反应腔体内呈真空状态;(4)将包覆材料注入反应腔体中,调控温度使包覆材料气化,在催化剂的作用下与基底材料发生化学反应,包覆在基底材料的表面,形成核壳结构坯料;(5)将坯料取出,20~160℃真空干燥0.5~24h,去除坯料上残留的催化剂和包覆材料,得到具有均匀核壳结构的复合材料。与现有技术相比,本发明具有步骤简单、容易实现等优点。

Patent Agency Ranking