公开(公告)号：CN102081181B

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN201010557217.4

申请日：2010-11-24

Applicant: 同济大学

Inventor： 周斌 ,  刘春泽 ,  周昌鹤 ,  杜艾 ,  沈军 ,  吴广明 ,  张志华

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明公开了一种化学法制备色分离光栅的方法，采用锆酸丁酯为源，制得感光性的溶胶，通过在溶胶中加入高聚物聚乙烯吡咯烷酮，以减小在薄膜制备过程中产生的应力，使薄膜厚度可在较大范围内调节而不开裂。采用提拉法镀膜，制备均匀的单面薄膜。经过两次成膜，曝光，显影工艺，获得与设计一致的光栅结构，每周期内为特定高度的三台阶结构，呈对称分布。采用紫外线对色分离光栅进行处理，在保持疏松的骨架结构同时尽量去除有机成分。该方法设计工艺灵活，可重复性和可控性好，光栅的激光损伤阈值高，避免了光刻胶及显影液等高污染试剂的使用，可用于多种不同衍射光学元件制作领域。

公开(公告)号：CN102081181A

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：CN201010557217.4

申请日：2010-11-24

Applicant: 同济大学

Inventor： 周斌 ,  刘春泽 ,  周昌鹤 ,  杜艾 ,  沈军 ,  吴广明 ,  张志华

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明公开了一种化学法制备色分离光栅的方法，采用锆酸丁酯为源，制得感光性的溶胶，通过在溶胶中加入高聚物聚乙烯吡咯烷酮，以减小在薄膜制备过程中产生的应力，使薄膜厚度可在较大范围内调节而不开裂。采用提拉法镀膜，制备均匀的单面薄膜。经过两次成膜，曝光，显影工艺，获得与设计一致的光栅结构，每周期内为特定高度的三台阶结构，呈对称分布。采用紫外线对色分离光栅进行处理，在保持疏松的骨架结构同时尽量去除有机成分。该方法设计工艺灵活，可重复性和可控性好，光栅的激光损伤阈值高，避免了光刻胶及显影液等高污染试剂的使用，可用于多种不同衍射光学元件制作领域。