一种茖葱仿生栽培方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116369144A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310127325.5

    申请日:2023-02-17

    Abstract: 本发明涉及茖葱仿生栽培方法,1).立地选择;I.选择半阳坡、半阴坡或阴坡,且具有排水性,坡度≤25°,土层深度≥30 cm,土壤湿润,pH值5.5‑6.0的暗棕壤或棕壤,以红松针叶林或针阔混交林为上层林分,郁闭度0.3‑0.7;2).栽植前整地;I.清除地块上的枯枝烂叶、灌木、杂草以及碎石,并在局部低洼地进行填土,使地块平整,以避免产生积水烂根现象。该茖葱仿生栽培方法,通过科学的进行立地选择、地块整理、林下栽培、栽培措施调控以及植株采收,此状态下的茖葱生长良好,且可循环采收,避免茖葱在采收阶段被损坏,相比于传统的茖葱栽培方式,本申请技术方案将光照、水分与肥料更加的充分利用,使得茖葱在生长阶段更具可靠性与稳定性,茖葱的生长更为健康。

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