公开(公告)号：CN1271474C

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200310124030.5

申请日：2003-12-31

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张仲兴 ,  林建宏 ,  林本坚 ,  林佳惠 ,  金持正 ,  林进祥 ,  梁辅杰 ,  陈政宏 ,  何邦庆

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F1/20 ,  G03B27/42 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70475

Abstract: 本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分包括一主要图形区与一邻近该主要图形区的接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。

公开(公告)号：CN1534380A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200310124030.5

申请日：2003-12-31

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张仲兴 ,  林建宏 ,  林本坚 ,  林佳惠 ,  金持正 ,  林进祥 ,  梁辅杰 ,  陈政宏 ,  何邦庆

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F1/20 ,  G03B27/42 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70475

Abstract: 本发明公开了一种转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法，可藉以补偿光罩接合区(Stitching Area)因为接合效应(Stitching Effect)所产生的误差。本发明的转移光罩图形的方法至少包括以下步骤。首先，提供用以产生一光罩的一数据文件，并将此数据文件分成复数个部分，其中每一部分至少包括一主要图形区与一接合区，且此接合区至少包括一几何图形。然后，于接合区形成一组几何特征，其中于一照射过程后此组几何特征形成一半色调灰阶曝光剂量分布。