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公开(公告)号:CN106255252A
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201610339201.3
申请日:2016-05-20
Applicant: 双叶电子工业株式会社
IPC: H05B33/04
CPC classification number: H01L51/5253 , H01L27/3281 , H01L2251/5338 , H01L2251/55 , H01L2251/558 , H05B33/04
Abstract: 本发明涉及一种可挠性有机EL设备,其在有机树脂基体材料的一个面之上依次具备无机保护层、有机EL发光部、缓冲层以及耐破损层,缓冲层为包含硅酮或EPDM的层,耐破损层在5~35℃下的弹性模量为100MPa至300GPa。
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公开(公告)号:CN104701347B
公开(公告)日:2018-09-25
申请号:CN201410742603.9
申请日:2014-12-08
Applicant: 双叶电子工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种可靠性高的有机场致发光装置。有机EL装置(1)具有基板(2)、至少一个有机EL元件(3)、绝缘膜(4)、结构体(5)、被覆部(6)以及钝化膜(7)。有机EL元件(3),在基板(2)上具有阳极(31)、含有有机发光层的有机层(32)以及阴极(33)。结构体(5),设置在基板(2)上,厚度比有机EL元件(3)的膜厚大。被覆部(6)在结构体(5)的台阶底部(51)上形成。钝化膜(7)被覆在有机场致发光元件(3)、结构体(5)以及被覆部(6)上。
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公开(公告)号:CN104701463A
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201410742605.8
申请日:2014-12-08
Applicant: 双叶电子工业株式会社
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5253 , H01L27/32 , H01L51/0097 , H01L51/5012 , H01L51/5259 , H01L2251/5338
Abstract: 本发明提供一种可靠性高的有机场致发光设备。有机场致发光设备(1)包括:至少一层无机阻挡膜(4)、至少一个有机场致发光元件(5)和密封部。形成的无机阻挡膜(4)与柔性基板(2)或基板(2)上形成的至少一层有机树脂膜(3)接触。有机场致发光元件(5)形成在无机阻挡膜(4)上,且具有阳极(51)、含有有机发光层的有机层(52)以及阴极(53)。密封部至少具有柔性密封薄膜(8)和密封膜(6)中的至少一个,并将至少一个有机场致发光元件(5)从外部气体中屏蔽。无机阻挡膜(4)的形成面被保持为维持施加压缩应力的状态。
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公开(公告)号:CN104701463B
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201410742605.8
申请日:2014-12-08
Applicant: 双叶电子工业株式会社
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5253 , H01L27/32 , H01L51/0097 , H01L51/5012 , H01L51/5259 , H01L2251/5338
Abstract: 本发明提供一种可靠性高的有机场致发光设备。有机场致发光设备(1)包括:至少一层无机阻挡膜(4)、至少一个有机场致发光元件(5)和密封部。形成的无机阻挡膜(4)与柔性基板(2)或基板(2)上形成的至少一层有机树脂膜(3)接触。有机场致发光元件(5)形成在无机阻挡膜(4)上,且具有阳极(51)、含有有机发光层的有机层(52)以及阴极(53)。密封部至少具有柔性密封薄膜(8)和密封膜(6)中的至少一个,并将至少一个有机场致发光元件(5)从外部气体中屏蔽。无机阻挡膜(4)的形成面被保持为维持施加压缩应力的状态。
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公开(公告)号:CN104701347A
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201410742603.9
申请日:2014-12-08
Applicant: 双叶电子工业株式会社
CPC classification number: H01L51/5253 , H01L27/3281 , H01L27/3283 , H01L51/5259 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种可靠性高的有机场致发光装置。有机EL装置(1)具有基板(2)、至少一个有机EL元件(3)、绝缘膜(4)、结构体(5)、被覆部(6)以及钝化膜(7)。有机EL元件(3),在基板(2)上具有阳极(31)、含有有机发光层的有机层(32)以及阴极(33)。结构体(5),设置在基板(2)上,厚度比有机EL元件(3)的膜厚大。被覆部(6)在结构体(5)的台阶底部(51)上形成。钝化膜(7)被覆在有机场致发光元件(3)、结构体(5)以及被覆部(6)上。
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