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实用新型
一种分子束外延用蒸发坩埚有权

公开(公告)号：CN216473577U

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202121368177.9

申请日：2021-06-18

Applicant: 厦门稀土材料研究所

Inventor： 卢灿忠 , 陈旭林 , 张孝文 , 陶晓栋

IPC: C30B23/02

Abstract: 本实用新型公开了一种分子束外延用蒸发坩埚，包括一端开口的中空柱状坩埚主体；坩埚主体相对的内侧壁之间的垂直距离与坩埚主体的直径之间的比例为1:3～10。本申请的分子束外延用蒸发坩埚，通过限定坩埚主体相对的内侧壁之间的垂直距离与坩埚主体的直径之间的比例关系，降低坩埚主体的升温速度，从而使坩埚主体内的温度梯度较小，使得其内材料受热均匀，从而使产生的分子束流稳定，不会影响产品的质量。另外，本申请的蒸发坩埚，分子束流在上升至小孔准直装置喷射到适当温度的单晶基片上的过程中，不会被阻挡，也就不会发生凝聚，进一步提高了分子束流的稳定性。

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