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公开(公告)号:CN119092404A
公开(公告)日:2024-12-06
申请号:CN202411234124.6
申请日:2024-09-04
Applicant: 厦门理工学院
IPC: H01L21/329 , H01L29/872 , H01L29/06 , H01L29/40
Abstract: 本发明涉及功率射频分立器件技术领域,特别涉及一种SBD器件及其制备方法。该方法包括以下步骤:提供第一衬底;在所述第一衬底的上表面形成具有刚玉型晶体结构的键合中间层;提供β‑Ga2O3层,所述β‑Ga2O3层具有第一表面和第二表面;对所述β‑Ga2O3层的第二表面进行离子注入;将β‑Ga2O3层转印至所述键合中间层,使所述β‑Ga2O3层的第二表面与所述键合中间层的上表面接触,形成异质集成衬底;在所述异质集成衬底的上表面形成外延层;在所述外延层的上表面形成部分覆盖的场板钝化层,所述场板钝化层由下至上依次包括缓冲层和钝化层,该场板结构可以有效抑制器件电极边缘的强电场。本发明提供实现的SBD器件具有较高的器件性能及可靠性。