公开(公告)号：CN118390149A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410513087.6

申请日：2024-04-26

Applicant: 厦门理工学院

Inventor： 李辉 ,  蔡旺 ,  葛晓宏 ,  郑武松 ,  谢鹏远

IPC: C25F7/00 ,  C25F3/16

Abstract: 本发明提供一种用于抛光金属管件内腔的等离子抛光装置，管件抛光技术领域。该用于抛光金属管件内腔的等离子抛光装置，包括载物台、进液泵和集液槽，所述载物台的上端面中心处固定设置有控制板，所述控制板内部底面中心处转动设置有转轴，所述转轴的上端贯穿控制板通至控制板的上端固定设置有调节板，所述调节板后端一侧固定设置有延伸板，所述延伸板的上端固定设置有存储槽。本专利的等离子抛光装置通过电极喷头直接向金属管件内腔喷射抛光液，实现精准和均匀的抛光效果，该方法优化了传统电解质等离子加工技术，在提高抛光质量的同时，避免了抛光液溢出和混合的问题，实现了更高效、可控的抛光过程。

公开(公告)号：CN222411979U

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202420893548.2

申请日：2024-04-26

Applicant: 厦门理工学院

Inventor： 蔡旺 ,  葛晓宏 ,  李辉 ,  谢鹏远 ,  郑武松 ,  颜晞鹏

IPC: C25F7/00 ,  C25F3/16

Abstract: 本实用新型提供一种用于抛光金属管件内腔的等离子抛光装置，管件抛光技术领域。该用于抛光金属管件内腔的等离子抛光装置，包括载物台、进液泵和集液槽，所述载物台的上端分别固定设置有固定滑轨和支撑座；所述固定滑轨远离支撑座的一端固定设置有步进电机，所述固定滑轨上滑动设置有滑块，所述滑块的上端分别固定设置有一号挡板和二号挡板。本专利的等离子抛光装置通过电极喷头直接向金属管件内腔喷射抛光液，实现精准和均匀的抛光效果，该方法优化了传统电解质等离子加工技术，在提高抛光质量的同时，避免了抛光液溢出和混合的问题，实现了更高效、可控的抛光过程。