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公开(公告)号：CN206116279U
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201621185197.1
申请日：2016-10-28
Applicant: 厦门理工学院
IPC: H01H33/664
Abstract: 本实用新型公开了一种非对称真空灭弧室纵向磁场触头结构，包括静触头片和动触头片，静触头片与静导电杆固定连接，动触头片与动导电杆固定连接，静触头片与动触头片之间存在间隙，静触头片与静导电杆之间设有纵向磁场线圈，动触头片与动导电杆之间设有动触头外屏蔽罩。本实用新型有利于减小灭弧室尺寸，使断路器体积小型化；内部所形成纵向磁场呈“偏心式”，磁场有效面积较大，利于真空电弧直接进入扩散态，灭弧室使用寿命长，开断性能好。
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