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公开(公告)号:CN108193230B
公开(公告)日:2019-07-30
申请号:CN201711485380.2
申请日:2017-12-29
Applicant: 厦门理工学院
CPC classification number: Y02E60/366
Abstract: 一种钽衬底上生长InxGa1‑xN纳米线的光电极,包括Ta衬底、中间层和InxGa1‑xN纳米线层,其中,x=0.05~0.5。中间层包括Ta氮化物,且构筑于所述Ta衬底与所述InxGa1‑xN纳米线层之间,与InxGa1‑xN纳米线层的能级匹配。通过阳极氧化法结合高温氨化法对钽片进行前处理,形成中间层,然后采用VLS‑CVD法,在处理后的钽片上生长InxGa1‑xN纳米线。本发明设计了Ta/(Ta2N/TaN/Ta3N5)/InxGa1‑xN纳米线结构的光电极,构筑了能级匹配的中间层,大幅度提高光催化分解水制氢和光催化降解水中有机污染物效率,且方法简单,在解决能源和环境问题方面有着重要的应用前景。
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公开(公告)号:CN108193230A
公开(公告)日:2018-06-22
申请号:CN201711485380.2
申请日:2017-12-29
Applicant: 厦门理工学院
CPC classification number: Y02E60/366 , C25B11/0405 , B01J27/24 , B01J35/0033 , B01J35/004 , B01J37/0226 , C25B1/003 , C25B1/04 , C25B11/0447 , C25B11/0478
Abstract: 一种钽衬底上生长InxGa1-xN纳米线的光电极,包括Ta衬底、中间层和InxGa1-xNN纳米线层,其中,x=0.05~0.5。中间层包括Ta氮化物,且构筑于所述Ta衬底与所述InxGa1-xN纳米线层之间,与InxGa1-xN纳米线层的能级匹配。通过阳极氧化法结合高温氨化法对钽片进行前处理,形成中间层,然后采用VLS-CVD法,在处理后的钽片上生长InxGa1-xN纳米线。本发明设计了Ta/(Ta2N/TaN/Ta3N5)/InxGa1-xN纳米线结构的光电极,构筑了能级匹配的中间层,大幅度提高光催化分解水制氢和光催化降解水中有机污染物效率,且方法简单,在解决能源和环境问题方面有着重要的应用前景。
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