一种钽衬底上生长InxGa1-xN纳米线的光电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN108193230B

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201711485380.2

    申请日:2017-12-29

    CPC classification number: Y02E60/366

    Abstract: 一种钽衬底上生长InxGa1‑xN纳米线的光电极,包括Ta衬底、中间层和InxGa1‑xN纳米线层,其中,x=0.05~0.5。中间层包括Ta氮化物,且构筑于所述Ta衬底与所述InxGa1‑xN纳米线层之间,与InxGa1‑xN纳米线层的能级匹配。通过阳极氧化法结合高温氨化法对钽片进行前处理,形成中间层,然后采用VLS‑CVD法,在处理后的钽片上生长InxGa1‑xN纳米线。本发明设计了Ta/(Ta2N/TaN/Ta3N5)/InxGa1‑xN纳米线结构的光电极,构筑了能级匹配的中间层,大幅度提高光催化分解水制氢和光催化降解水中有机污染物效率,且方法简单,在解决能源和环境问题方面有着重要的应用前景。

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