阵列基板、掩膜板、有源结构制备方法及显示面板

    公开(公告)号:CN113820894B

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202111000778.9

    申请日:2021-08-30

    Abstract: 本申请实施例提供一种阵列基板、掩膜板、有源结构制备方法及显示面板,所述阵列基板包括显示区,设置多个经过沟道掺杂后的第一有源结构;非显示区,位于所述显示区至少一侧,所述非显示区设置多个经过沟道掺杂后的第二有源结构,其中,所述第一有源结构的掺杂率大于所述第二有源结构的掺杂率。第一有源结构为重度掺杂区,能够形成高迁移率的有源层,增加阈值电压,使显示区具有高分辨率、高开口率、高反应速度和低功耗等优点,以匹配显示面板的高频需求,同时第二有源结构为轻度掺杂区,可以提高非显示区的导通电流,从而增强像素充电能力。

    阵列基板、掩膜板、有源结构制备方法及显示面板

    公开(公告)号:CN113820894A

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202111000778.9

    申请日:2021-08-30

    Abstract: 本申请实施例提供一种阵列基板、掩膜板、有源结构制备方法及显示面板,所述阵列基板包括显示区,设置多个经过沟道掺杂后的第一有源结构;非显示区,位于所述显示区至少一侧,所述非显示区设置多个经过沟道掺杂后的第二有源结构,其中,所述第一有源结构的掺杂率大于所述第二有源结构的掺杂率。第一有源结构为重度掺杂区,能够形成高迁移率的有源层,增加阈值电压,使显示区具有高分辨率、高开口率、高反应速度和低功耗等优点,以匹配显示面板的高频需求,同时第二有源结构为轻度掺杂区,可以提高非显示区的导通电流,从而增强像素充电能力。

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