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公开(公告)号:CN113013229A
公开(公告)日:2021-06-22
申请号:CN202110209222.4
申请日:2021-02-25
IPC: H01L29/06 , H01L29/78 , H01L21/336
Abstract: 本发明公开了一种碳化硅UMOSFET功率器件及其制备方法,其器件结构包括从下到上依次包括漏电极、N+衬底层、N‑漂移层、N+电流扩散层、P型掺杂层、源区层、两个源电极;两个所述源电极之间设有源区接触层,所述源区接触层的底端设有栅电极,所述栅电极的外壁上包裹有栅极介质,所述栅极介质依次贯穿所述N+电流扩散层、P型掺杂层、源区层,所述栅极介质镶嵌在N‑漂移层的顶端。本发明通过在材料生长时改变掺杂气体流量,外延自下而上掺杂浓度渐变的漂移层,达到提高器件击穿电压并保持低导通电阻的目的,最终实现高性能器件的制备。