公开(公告)号：CN117761808A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202311800494.7

申请日：2023-12-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 卜轶坤 ,  胡泽雄 ,  何泽湘 ,  陈楠 ,  王宁 ,  王丹

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/10 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明公开了一种材料折射率渐变的激光防护薄膜结构及制备方法。其中，该薄膜结构由抗损伤膜堆以及反射膜堆堆叠而成；其中，抗损伤膜堆由高折射率薄膜和低折射率薄膜交替堆叠而成的周期性多层膜，且所述高折射率薄膜的折射率沿抗损伤膜堆外侧至反射膜堆侧依次增大。本发明在膜系最外侧几层使用折射率较低的材料，具有更高的激光损伤阈值，使其能承受最大的电场强度；随着高折射率材料的折射率逐渐增加，电场强度峰值衰减的速度也不断增加，对膜系内部的反射膜堆起到很好的保护作用；反射膜堆具有最大的折射率比值，能提供最高的反射率和最宽的反射带宽，抗损伤膜堆折的射率比值由外向内逐渐增加，能最大程度减小对反射率和反射带宽的影响。