公开(公告)号：CN105158835B

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201510427099.8

申请日：2015-07-20

Applicant: 厦门大学

Inventor： 卜轶坤 ,  肖丽翔 ,  邓子豪 ,  冯都镇 ,  方凡 ,  傅宇翔 ,  陈楠

IPC: G02B5/28

Abstract: 基于单一硅材料的光变防伪薄膜，涉及光学防伪。所述基于单一硅材料的光变防伪薄膜为全介质高反射膜、硅与介质间隔层组成的反射膜、硅与对称F‑P介质组合膜系组成的反射膜；全介质高反射膜的膜系结构表示为A/(HL)s H/G。硅与介质间隔层组成的反射膜的膜系结构分别为A/(4M2.6L)x100M’/G和A/(4M1.85H)y 100M’/G。硅与对称F‑P介质组合膜系组成的反射膜的膜系结构A/4M0.88L(HL)p(LH)p 0.29L100M’/G。只采用硅作为镀膜材料，制备更加环保，成本更低，且原材料来源广。

公开(公告)号：CN105158835A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201510427099.8

申请日：2015-07-20

Applicant: 厦门大学

Inventor： 卜轶坤 ,  肖丽翔 ,  邓子豪 ,  冯都镇 ,  方凡 ,  傅宇翔 ,  陈楠

IPC: G02B5/28

Abstract: 基于单一硅材料的光变防伪薄膜，涉及光学防伪。所述基于单一硅材料的光变防伪薄膜为全介质高反射膜、硅与介质间隔层组成的反射膜、硅与对称F-P介质组合膜系组成的反射膜；全介质高反射膜的膜系结构表示为A/(HL)s H/G。硅与介质间隔层组成的反射膜的膜系结构分别为A/(4M2.6L)x100M’/G和A/(4M1.85H)y 100M’/G。硅与对称F-P介质组合膜系组成的反射膜的膜系结构A/4M0.88L(HL)p(LH)p 0.29L100M’/G。只采用硅作为镀膜材料，制备更加环保，成本更低，且原材料来源广。