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发明公开
材料沉积方法及用其获得的微系统审中-实审

公开(公告)号：CN116724686A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202280010107.7

申请日：2022-01-13

Applicant: 卢森堡科学技术研究院

Inventor： N·阿鲁查米 , T·格兰佐 , E·德费 , S·格林塞克

IPC: H10N30/079

Abstract: 本发明涉及材料沉积方法，包括：提供基底(2)；通过化学溶液沉积CSD在基底(2)上形成HfO2膜(4)；在HfO2膜(4)上沉积PbTiO3的溶液；在籽晶层(6)上沉积Pb(Zrx,Ti1‑x)O3层(8)，其中0≤x≤1；和在Pb(Zrx,Ti1‑x)O3层(8)上形成叉指式电极(10)。本发明还涉及通过这种沉积方法获得的铁电微系统(1)。实验表明，这种微系统的抗疲劳性能有所提高。

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