公开(公告)号：CN113614426B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202080016496.5

申请日：2020-02-12

Applicant: 卡特彼勒公司

Inventor： 冯暴 ,  C·J·哈斯 ,  J·J·埃夫里 ,  D·P·佛特恩腾 ,  J·M·斯宾格勒

IPC: F16J15/34

Abstract: 一种用于密封组件(30、36)的密封圈(111、112)包括本体(240)和密封凸缘(137)。本体(240)大体上是圆柱形的，在负载端(131)与密封端(132)之间沿纵向轴线(LA)延伸。密封凸缘(137)邻近本体(240)的密封端(132)设置，以包围方式从本体(240)沿径向突出。密封凸缘(137)包括密封面(136)，所述密封面具有用于与配合密封圈(111、112)密封接触的密封带(140)。至少向本体(240)施加被配制成帮助增加密封圈(111、112)的耐腐蚀性的涂层组合物层(142)。将掩模(300、400)施加到密封圈(111、112)以覆盖密封圈(111、112)的至少一部分，所述密封圈的至少一部分具有施加到其上的涂层组合物层(142)，使得密封带(140)保持暴露。密封带(140)通过各向同性精加工过程抛光。在各向同性地抛光密封带(140)之后移除掩模(300、400)。

公开(公告)号：CN106715754A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580048215.3

申请日：2015-09-08

Applicant: 卡特彼勒公司

Inventor： D·P·佛特恩腾 ,  D·J·索尔德艾利特 ,  C·J·哈斯 ,  D·T·卡瓦纳奥夫 ,  T·A·马尔基奥内

IPC: C23C24/10

CPC classification number: B23K26/34 ,  B22D23/00 ,  B23K26/1464 ,  B23K26/60 ,  B23K2101/008 ,  B23K2103/04 ,  B23K2103/06 ,  C22C19/007 ,  C22C19/05 ,  C22C19/07 ,  C22C37/00 ,  C22C37/04 ,  C22C38/002 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/18 ,  C22C38/42 ,  C22C38/44 ,  C22C38/46

Abstract: 本发明提供一种用于制造机械面密封件的方法，该方法包括获得具有内径、外径和平坦表面(440)的铸造或锻造基材部分(400)的步骤。该方法可以包括将平坦表面(440)暴露于激光(1000)的暴露步骤(330)。该方法可以进一步包括将涂层材料(1150)供应到平坦表面(440)上的激光(1000)之处或附近的位置处的供应步骤，以使涂层材料(1150)与基材部分(400)形成冶金结合。

公开(公告)号：CN113614426A

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN202080016496.5

申请日：2020-02-12

Applicant: 卡特彼勒公司

Inventor： 冯暴 ,  C·J·哈斯 ,  J·J·埃夫里 ,  D·P·佛特恩腾 ,  J·M·斯宾格勒

IPC: F16J15/34

Abstract: 一种用于密封组件(30、36)的密封圈(111、112)包括本体(240)和密封凸缘(137)。本体(240)大体上是圆柱形的，在负载端(131)与密封端(132)之间沿纵向轴线(LA)延伸。密封凸缘(137)邻近本体(240)的密封端(132)设置，以包围方式从本体(240)沿径向突出。密封凸缘(137)包括密封面(136)，所述密封面具有用于与配合密封圈(111、112)密封接触的密封带(140)。至少向本体(240)施加被配制成帮助增加密封圈(111、112)的耐腐蚀性的涂层组合物层(142)。将掩模(300、400)施加到密封圈(111、112)以覆盖密封圈(111、112)的至少一部分，所述密封圈的至少一部分具有施加到其上的涂层组合物层(142)，使得密封带(140)保持暴露。密封带(140)通过各向同性精加工过程抛光。在各向同性地抛光密封带(140)之后移除掩模(300、400)。