一种全光镍添加剂及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116083975A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310068557.8

    申请日:2023-02-06

    Inventor: 陆建辉 袁军华

    Abstract: 本发明涉及C23C18/32技术领域,具体为一种全光镍添加剂及其制备方法,至少包括光泽剂组合物、柔软剂组合物、辅助剂组合物、润湿剂,通过在体系中引入配方量的光泽剂组合物,有效控制镀镍层的光亮度和填平度,对于有深凹处的工件,也能覆盖饱满的镀层,避免镀层出现针孔、发黑现象,满足汽车零部件、家具、卫浴零件、电子部件等的使用要求。

    一种中性锡添加剂及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN112095127A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN202011046826.3

    申请日:2020-09-29

    Abstract: 本发明涉及电镀领域,具体涉及一种中性锡添加剂及其制备方法和应用。一种中性锡添加剂,按重量百分比计,至少包括以下组分:湿润剂0.01‑0.3%、分散剂0.02‑0.5%、络合剂20‑35%、pH调节剂10‑15%、缓冲剂1‑5%、水补足余量。本发明通过各组分间的协同作用,提高了电镀液的透明度及稳定性;电镀效果好,镀锡溶液性能稳定使用时间长,镀层均匀光洁度高,镀层表面光洁度好、均匀、结合强度高,镀锡溶液稳定性高、不易浑浊且使用时间长、沉积物精细且可焊性好、平整性好、电镀液的稳定性好、镀膜均匀性好、高温回流时不变色、高区电镀液不腐蚀镀层,适用于各个领域,尤其电阻器、数组型芯片模块等。

    一种化学铜水平线活化剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN119753649A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202411957886.9

    申请日:2024-12-30

    Inventor: 陆建辉 袁军华

    Abstract: 本发明涉及活化剂技术领域,具体为一种化学铜水平线活化剂及其制备方法,按质量浓度计,至少包括以下物质:硫酸钯0.4‑0.8g/L,弱酸0.4‑0.8g/L,吡啶类0.9‑2.3g/L,聚乙二醇1.4‑2.4g/L,pH调节剂6‑14g/L,通过优化产品配方体系,实现钯浓度生产,降低了活化时间,化学镀铜后的材料品质特别是背光能力从原来的7级提升到9级。

    一种用于铝基材PCB线路板的除蜡水及其制备方法

    公开(公告)号:CN114717062B

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202110333385.3

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本发明提供了一种用于铝基材PCB线路板的除蜡水,其特征在于:包括表面活性剂、助清洗剂和助剂。所述除蜡水还包括聚羧酸钠盐。本发明所制备的除水蜡能够出去铝基材PCB线路板表面不同种类的油脂,不侵蚀基体,能保持抛光面光泽,使用寿命长。发明人选用椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、烷基糖苷和脂肪酸甲酯乙氧基化物的磺酸盐作为表面活性剂,同时,本发明中加入了助清洗剂,聚羧酸钠盐,使除蜡水系统的螯合能力和污垢分散能力明显改进,提高了清洗力。本发明制备方法简单方便,可重复操作性强,有利于大规模生产。可以广泛应用于工业除蜡清洗过程中,对提高线路板性能具有重要意义。

    一种HDI微盲孔填充用电镀铜浴及其使用方法

    公开(公告)号:CN115928160A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202210238345.5

    申请日:2022-03-11

    Abstract: 本发明涉及C25D3/38领域,具体为一种HDI微盲孔填充用电镀铜浴及其使用方法,以五水合硫酸铜80‑120g/L,硫酸30‑50g/L,氯化钠15‑30mg/L,丙烷磺酸钠1‑5mL/L,聚乙二醇12‑20mL/L,胺类化合物2‑4mL/L,含氮杂环化合物0.5‑3mL/L,添加剂1‑4mL/L,余量为超纯水为原料,提供了一种HDI微盲孔填充用电镀铜浴,解决现有铜浴填孔后易出现的凹陷、鼓包、裂缝铜镀层均匀稳定性不足的问题,使铜镀层表面平整、光滑,结晶细致,提高了铜镀层延展性及抗拉强度稳定性,有助于延长HDI板的使用寿命,提升生产效率,具有极高的实际应用价值。

    一种铝基材PCB线路板上用化学镀镍液及其制备方法

    公开(公告)号:CN112501598B

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202011376349.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本发明涉及电镀技术,尤其涉及一种铝基材PCB线路板上用化学镀镍液及其制备方法。其原料包括,镍源200‑280g/L,还原剂40‑55g/L,络合剂30‑56g/L,硫酸盐稀土15‑30mg/L,硫脲16‑25mg/L,十二烷基硫酸钠0.05‑0.2g/L,无机纳米颗粒0.4‑1g/L;溶剂为水。采用本发明所述的化学镍溶液可以镀得厚度极薄、延展均匀、活性强的镍镀层,其尤其适用于铝基材PCB线路板,进一步提高了铝基材PCB线路板的耐腐蚀性和稳定性;本发明制得的化学镍镀液稳定性强,镀液分解时间能够达到200s以上,应用前景广阔。

    一种用于电子电路电镀铜填孔的电镀铜浴及其使用方法

    公开(公告)号:CN112458504A

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN202011399766.3

    申请日:2020-12-01

    Abstract: 本发明涉及电镀技术领域,尤其涉及一种用于电子电路电镀铜填孔的电镀铜浴及其使用方法。其原料包括:硫酸铜200‑280g/L,硫酸32‑57g/L,聚季铵盐0.001‑0.01mg/L,SPS0.00001‑0.0005mg/L,聚醚组合物0.02‑0.1mg/L,Cl‑45‑82ppm,溶剂为水。采用本发明技术方案得到的电镀铜浴具有优异的填孔性能,对于盲孔的填充效果好,无包孔现象,且镀层的延展性和抗拉强度高,耐冲击性强,300℃冲击后无裂纹或孔壁分离等现象,具有广阔的应用前景。

Patent Agency Ranking