一种祛痘微晶贴配方及其制备工艺和应用

    公开(公告)号:CN118717577A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410749589.9

    申请日:2024-06-12

    Inventor: 郝林绘

    Abstract: 本发明属于护肤品领域,具体公开了一种祛痘微晶贴配方及其制备工艺和应用,所述配方按重量份数计算,包括以下原料,纯化水90‑95份,分子量为0.5‑1万的透明质酸钠2‑3份,分子量为40‑80万透明质酸钠1‑2份,聚乙烯醇2.5‑3份,甘草酸二钾0.3‑1份,水杨酸0.1‑0.5份,烟酰胺0.5‑1份,磷硅酸钠钙0.05‑0.07份。本发明公开的产品能实现功效成分的高效递送;配方所选用的功效成分在合适的配比下能起到控制皮脂分泌、抑制微生物过度增值、舒缓皮肤炎症以及促进皮肤修复等作用,从而产生高效的祛痘效果;同时,该产品在合理的配方选择下皮肤亲和性高,无明显刺激性。

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