基于V型腔阵列表面的可控电镀法在制备高灵敏SERS基底中的应用

    公开(公告)号:CN113720826A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202111002728.4

    申请日:2021-08-30

    Applicant: 南通大学

    Abstract: 本发明提供了一种基于V型腔阵列表面的可控电镀法在制备高灵敏SERS基底中的应用,包括:1)制备电镀模板,采用V型腔体结构的AAO模板,以固定角度及恒定速率蒸镀10nm铬和120nm银,形成一层紧密结合的AAO银膜电镀层;2)制备电镀液,配制3.3mM氯金酸和0.1M氢氟酸的混合液;3)电化学可控组装,采用三电极的电化学工作站,电镀模板作为工作电极,铂片电极作为对电极,Ag/AgCl2作为参比电极,在0.1mA/cm2的恒电流密度下进行沉积生长并记录。本发明中的金纳米粒子在V型腔阵列表面可实现定向可控沉积,且获得的高灵敏SERS基底可达到单分子检测水平,对R6G的检测限可低至10‑18M。

    基于V型腔阵列表面的可控电镀法在制备高灵敏SERS基底中的应用

    公开(公告)号:CN113720826B

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202111002728.4

    申请日:2021-08-30

    Applicant: 南通大学

    Abstract: 本发明提供了一种基于V型腔阵列表面的可控电镀法在制备高灵敏SERS基底中的应用,包括:1)制备电镀模板,采用V型腔体结构的AAO模板,以固定角度及恒定速率蒸镀10nm铬和120nm银,形成一层紧密结合的AAO银膜电镀层;2)制备电镀液,配制3.3mM氯金酸和0.1M氢氟酸的混合液;3)电化学可控组装,采用三电极的电化学工作站,电镀模板作为工作电极,铂片电极作为对电极,Ag/AgCl2作为参比电极,在0.1mA/cm2的恒电流密度下进行沉积生长并记录。本发明中的金纳米粒子在V型腔阵列表面可实现定向可控沉积,且获得的高灵敏SERS基底可达到单分子检测水平,对R6G的检测限可低至10‑18M。

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