公开(公告)号：CN108796465A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201710280946.1

申请日：2017-04-26

Applicant: 南通大学

Inventor： 杨建华 ,  黄小忠 ,  丁一 ,  钱月明 ,  于鹏飞 ,  祁万钰 ,  杨北平

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/48 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供了一种离子剂量和靶温检测方法，在离子溅射镀膜中对样品进行表面处理的检测过程中，对样品进行局部表面的掩蔽的方式进行表面处理的检测。采用这一系统可以减小同批样品预处理条件和真空处理条件波动的影响，可在不破坏真空的情况下提高材料真空表面处理的处理效率，避免频繁打开真空可能导致的污染，提高处理工艺的可重复性，加快处理技术的实用化进程。