公开(公告)号：CN117888107A

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202311825094.1

申请日：2023-12-27

Applicant: 南昌大学

Inventor： 于天宝 ,  陈昆

IPC: C23F1/18

Abstract: 本发明提供了一种铜刻蚀液的制备方法与应用，属于半导体刻蚀技术领域。本发明提供一种刻蚀液，其刻蚀速度适中、刻蚀效果良好，能够改善铜刻蚀液的刻蚀品质。本发明针对特殊基板的电镀覆铜及掺杂覆铜的表面刻蚀，制备的铜刻蚀液具有刻蚀速度适中、刻蚀效果良好等优点，能够使铜在刻蚀中更加均匀可控，不会导致表面光刻胶脱落，且不会在表面留下难以去除的棕色污渍；同时配制工艺简单、安全、高效、稳定，适合工业化生产。

公开(公告)号：CN221282338U

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202323124872.2

申请日：2023-11-20

Applicant: 南昌大学

Inventor： 于天宝 ,  陈昆

IPC: H01P5/16

Abstract: 本实用新型公开了一种具有不同功率分配比的双频功分器，属于多频功分器领域，包括介质基板，介质基板上设有输入端口、第一输出端口、第二输出端口，输入端口与第一输出端口之间连接有第一微带线，输入端口与第二输出端口之间连接有第三微带线，第一输出端口与第二输出端口之间连接有集总电阻元件；该种具有不同功率分配比的双频功分器，能够在任意两个指定频率上实现不同的功率划分，且还具有尺寸小、便于灵活设计和加工等优点。