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公开(公告)号：CN117845300A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311680711.3
申请日：2023-12-08
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明提供了一种铜及其合金表面微弧氧化处理方法，涉及铜表面处理的技术领域。包括以下步骤：在微弧氧化液中，以铜基材为正极、铅板为负极，在电压100‑150V、频率3000‑5000Hz下，对铜基材表面进行恒压微弧氧化30‑40min后，取出微弧样品；将微弧样品浸没于后处理液中，在20‑30℃下搅拌24‑48h后，制得表面生成复合膜层的铜基材；所述后处理液中包括4‑6wt.％的植酸、5‑10wt.％的硅烷和浓度1‑5％的氨水。本发明采用较低电压不易对操作人员产生较大的安全隐患，同时操作简单、效率高、能耗低且普适性好，处理后的铜材料具有超疏水性和高耐腐蚀性。
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