磺化单层石墨与聚合物复合材料及其制备和应用

    公开(公告)号:CN101381507A

    公开(公告)日:2009-03-11

    申请号:CN200810152471.9

    申请日:2008-10-24

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种磺化单层石墨与聚合物复合材料及其制备和应用。具体为一种使用磺化单层石墨材料作为掺杂剂,掺杂PEDOT(聚3,4-乙烯二氧噻吩)后形成的复合材料。按照下述重量份数配比制备:磺化单层石墨材料0.1~100份,聚合物0.1~100份。本发明提供的磺化单层石墨与聚合物复合材料高透光,高导电,可溶水和有机溶剂,价格便宜。在有机电致光显示、有机太阳能电池等有机光电器件中可得到广泛应用,例如有望替代PSS(聚苯乙烯磺酸)-PEDOT,将成为一种新型空穴传输材料。

    单层氧化石墨复合杂化材料和制备方法及应用

    公开(公告)号:CN101387810B

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200810152472.3

    申请日:2008-10-24

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种单层氧化石墨复合杂化材料和制备方法及应用,它是以单层氧化石墨和π电子共轭体系给予体为原料通过酰胺键连接制成。所述的单层氧化石墨与π电子共轭体系给予体的投料质量比为1:1。所述的单层氧化石墨是指其分子骨架由六角形晶格排列的单层石墨原子组成,含有氧的有机官能的二维平面材料,单个氧化石墨片面积在10nm2到400μm2之间,单片厚度在0.3到2nm之间。本发明复合材料的有机溶解性能有了显著的提高,并且表现了良好的非线性光学性质,用于非线性光学器件的制造。

    磺化单层石墨与聚合物复合材料及其制备和应用

    公开(公告)号:CN101381507B

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200810152471.9

    申请日:2008-10-24

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种磺化单层石墨与聚合物复合材料及其制备和应用。具体为一种使用磺化单层石墨材料作为掺杂剂,掺杂PEDOT(聚3,4-乙烯二氧噻吩)后形成的复合材料。按照下述重量份数配比制备:磺化单层石墨材料0.1~100份,聚合物0.1~100份。本发明提供的磺化单层石墨与聚合物复合材料高透光,高导电,可溶水和有机溶剂,价格便宜。在有机电致光显示、有机太阳能电池等有机光电器件中可得到广泛应用,例如有望替代PSS(聚苯乙烯磺酸)-PEDOT,将成为一种新型空穴传输材料。

    单层氧化石墨复合杂化材料和制备方法及应用

    公开(公告)号:CN101387810A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810152472.3

    申请日:2008-10-24

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种单层氧化石墨复合杂化材料和制备方法及应用,它是以单层氧化石墨和π电子共轭体系给予体为原料通过酰胺键连接制成。所述的单层氧化石墨与π电子共轭体系给予体的投料质量比为1∶1。所述的单层氧化石墨是指其分子骨架由六角形晶格排列的单层石墨原子组成,含有氧的有机官能的二维平面材料,单个氧化石墨片面积在10nm2到400μm2之间,单片厚度在0.3到2nm之间。本发明复合材料的有机溶解性能有了显著的提高,并且表现了良好的非线性光学性质,用于非线性光学器件的制造。

    功能化单层石墨与聚氨酯光致形状记忆复合材料及其制备

    公开(公告)号:CN101372553A

    公开(公告)日:2009-02-25

    申请号:CN200810152468.7

    申请日:2008-10-24

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: C08J3/215 C08G2280/00 C08L75/04

    Abstract: 本发明涉及一种功能化单层石墨与聚氨酯光致形状记忆复合材料及其制备方法,它是以功能化单层石墨和基体材料聚氨酯为原料制备,功能化单层石墨是基体材料聚氨酯重量的0.1-10%。经超声波处理得到功能化单层石墨溶解分散液与聚氨酯的溶解分散液充分混合,搅拌20-30min,再超声1-3小时,使该功能化单层石墨材料分散在聚氨酯中,旋涂或浇铸得复合材料增强薄膜。本发明的复合材料显示出优异的光致形状回复功能,且其机械性能也得到了极大的提高:回复率为85-95%,回复时间为5-10s,回复响应光强为30-100mw/cm2,杨氏模量提高为40-120%。

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